RU EN
RU EN

28.00.00 Нанотехнологии и наноматериалы

Фундаментальные основы процессов химического осаждения плёнок и структур для наноэлектроники отв. ред. Т.П. Смирнова

Фундаментальные основы процессов химического осаждения плёнок и структур для наноэлектроники

В монографии представлены результаты развития процессов химического осаждения из газовой фазы металлических и диэлектрических плёнок с использованием нетрадиционных летучих исходных соединений. Рассмотрены физико-химические свойства исходных соединений, изложены принципы выбора исходных соединений, основанные на исследовании их термодинамических свойств и термодинамическом моделировании MO CVD процессов. Дано описание наиболее важных для современной электроники и наноэлектроники материалов: металлических плёнок (Cu, Ni, Ru, Ir), диэлектрических плёнок с высоким (high-k) и низким (low-k) значением диэлектрической проницаемости. Проведён анализ химического и фазового состава и структуры простых и сложных оксидов на основе HfO2 (high-k диэлектрики), а также карбонитридов бора, карбонитридов и оксикарбонитридов кремния (low-k диэлектрики).

Метаматериалы и структурно организованные среды для оптоэлектроники, СВЧ-техники и нанофотоники отв. ред. В.Ф. Шабанов, В.Я. Зырянов

Метаматериалы и структурно организованные среды для оптоэлектроники, СВЧ-техники и нанофотоники

Монография посвящена исследованию микро- и нанокомпозитных сред. Приведено описание различных структурно организованных сред (метаматериалов, мультислойных структур, опалов, композитных плёнок и наноколлоидов, микрополосковых структур), изложены технологии их формирования, рассмотрены методы управления магнитными, оптическими и диэлектрическими свойствами.