RU EN
RU EN
Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий Яфаров Р. К.

Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий

Яфаров Р. К.

Физматлит 2009 г. 217 страниц

В книге обозначены и насколько возможно полно раскрыты современные тенденции и подходы в разработке СВЧ плазмохимического оборудования и нанотехнологий на его основе. Излагаются математическая теория диффузионных процессов и основы теории плазмы газового разряда в магнитном поле, описаны применяемые методы решения стохастических дифференциальных уравнений и уравнений Фоккера-Планка-Колмогорова. Даны обобщение и системное изложение опыта и результатов по разработке физико-технических основ новых типов микроволновых плазменных устройств. Приведены результаты практического использования разработанных микроволновых источников плазмы. Материалы книги могут быть задействованы в учебном процессе в качестве спецкурсов или спецсеминаров для студентов вузов соответствующего профиля.

Пролистать

Для бесплатного просмотра доступны первые 7 страниц

Купить доступ

Доступ к 5 772 книгам раздела Промышленность и строительство от 34.95 $

Содержание

  • Введение
  • Глава 1. Физико-технические основы создания СВЧ плазменных устройств c электронным циклотронным резонансом
  • § 1.1. Распространение СВЧ-колебаний в плазменных волноводных устройствах
  • § 1.2. Согласование элементов волноводного тракта
  • § 1.3. Одномодовые СВЧ плазменные устройства
  • § 1.4. Передача СВЧ-энергии и пробой в круглом волноводе-реакторе
  • § 1.5. Многомодовые СВЧ плазменные устройства
  • Глава 2. Взаимодействие электромагнитных волн с плазмой во внешнем магнитном поле
  • § 2.1. Общие сведения о свойствах низкотемпературной плазмы
  • § 2.3. Бесстолкновительное поглощение СВЧ-мощности во внешнем магнитном поле
  • § 2.4. Распространение электромагнитных волн в волноводах с продольно намагниченной плазмой
  • § 2.5. Удержание плазмы в магнитном поле
  • Глава 3. Диффузионная модель СВЧ газового разряда и ее применение в технологических процессах
  • § 3.1. Равномерность обработки в одномодовых СВЧ-источниках плазмы
  • § 3.2. Влияние геометрии реактора и источника ионизации на параметры плазменной обработки
  • § 3.3. Равномерность и производительность СВЧ плазменной обработки в убывающем магнитном поле
  • § 3.4. Диффузия электронов в цилиндрическом плазмотроне с внешним магнитным полем
  • § 3.5. Диффузионная модель газового СВЧ-разряда в магнитном поле с ненулевыми граничными условиями
  • Глава 4. Характеристики СВЧ-плазмы в магнитном поле
  • § 4.1. Методика исследования электронной компоненты СВЧ-плазмы в магнитном поле
  • § 4.2. Зависимость параметров плазмы от режима генерации
  • § 4.3. Электрические поля в СВЧ-разряде с внешним магнитным полем
  • § 4.4. Эмиссионные характеристики плазмы СВЧ газового разряда
  • § 4.5. Управление параметрами СВЧ ионно-плазменного источника
  • Глава 5. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление
  • § 5.1. Классификация процессов ионно-плазменного травления
  • § 5.2. Низкоэнергетичное травление соединений А3В5 в хлорсодержащем газовом СВЧ-разряде
  • § 5.3. Сверхвысокочастотное ВПТ металлических пленок
  • § 5.4. Плазмостойкость резистов при СВЧ ВПТ
  • Глава 6. Сверхвысокочастотное плазмохимическое травление кремниевых материалов
  • § 6.1. Скорость и селективность СВЧ-травления
  • § 6.2. Качество СВЧ-травления
  • § 6.3. Сверхвысокочастотное травление кремниевых пластин различных кристаллографических ориентаций
  • § 6.4. Механизм и анизотропность высоковакуумного СВЧ-травления
  • § 6.5. Влияние структуры поверхности на качество травления
  • Глава 7. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных гетероструктур на основе кремния и его соединений
  • § 7.1. Современные технологии формирования спонтанно упорядоченных наноструктур и нанокомпозитов
  • § 7.2. Размеры и плотность островков: возможности управления
  • § 7.3. Самоорганизация кремниевых нанокристаллитов в СВЧ-плазме
  • § 7.4. Синтез аморфного гидрогенизированного кремния и его соединений
  • § 7.5. Конформные пленочные покрытия диоксида кремния
  • Глава 8. Плазмохимический СВЧ-синтез низкоразмерных углеродных структур различных аллотропных модификаций
  • § 8.1. Самоорганизация наноалмазных кристаллитов
  • § 8.2. Синтез наноалмазных композиционных материалов
  • § 8.3. Интеграция технологических процессов на основе плазмы СВЧ газового разряда в магнитном поле
  • Список литературы